ZEMAX OpticStudio 19.4 新版本發(fā)布
現(xiàn)在!Zemax發(fā)布了全新的OpticStudio 19.4版本和LensMechanix 19.4版本,并且同步發(fā)布了全新的中文官網(wǎng)和中文幫助手冊。本次升級的主要內(nèi)容有:
OpticStudio發(fā)布19.4版本
在OS 19.4版本中,ZPL編程界面新增了關(guān)鍵詞搜索功能,ZOS-API中現(xiàn)已支持提取顏色探測器、材料庫以及幾何圖像分析等分析數(shù)據(jù),進(jìn)一步擴(kuò)展了OpticStudio編程的靈活性。在OS序列模式中新增加了CodeVTM文件導(dǎo)入工具,全面支持Binary 2和Zernike Fringe等面型的數(shù)據(jù)導(dǎo)入。此外在新版本中進(jìn)一步擴(kuò)展了格點(diǎn)矢高優(yōu)化 (Grid Optimization) 工具的實(shí)用性。更多OS 19.4版本的信息,請查閱節(jié)末鏈接中的更新說明。

LensMechanix發(fā)布19.4版本
在LMx 19.4版本中,增添了可支持的光學(xué)元件類型,如環(huán)形陣列、體探測器、面探測器和布爾物體;新增加了在LMx中進(jìn)行非序列光線追跡參數(shù)設(shè)置的選項(xiàng),并且現(xiàn)已支持對光學(xué)元件的散射屬性以及材料內(nèi)的體散射特性進(jìn)行定義;探測器查看器數(shù)據(jù)現(xiàn)在支持不同的顯示類型,增加了數(shù)據(jù)分析的靈活性。更多LMx 19.4版本的信息,請查看節(jié)末鏈接中的更新說明。

中文幫助手冊現(xiàn)已發(fā)布
OS 19.4版本首次發(fā)布了中文版本的幫助手冊。在幫助手冊中,您可以查閱OpticStudio中所有分析工具的使用規(guī)則、注意事項(xiàng)以及應(yīng)用示例等。中文幫助手冊的發(fā)布可以更好的服務(wù)廣大中文工程師及科研人員。

本次Zemax產(chǎn)品的全線升級為您提供了更加靈活的分析功能,同時(shí)您可以在全新發(fā)布的中文官網(wǎng)中了解最新的Zemax中文資訊,一同發(fā)布的中文幫助手冊也將為您的仿真設(shè)計(jì)提供幫助。
更多詳情請點(diǎn)擊 ZEMAX OpticStudio 19.4版本說明 了解詳情