ZEMAX里邊所有的光柵模型均為理想的光柵模型，不考慮光柵的衍射效率隨光波長、入射角、衍射級次的變化，所有波長、入射角、衍射級次都假定衍射效率100%，嚴重不符合物理實際，也無法進行公差分析。

我們自定義的光柵模塊Grtaing_XE.dll可以對上述模型進行修正，得到比較真實的衍射效率曲線。該光柵插件模塊基于標量衍射理論，支持正弦光柵、矩形（方波）光柵、基諾（kinorform）型光柵、二元光柵（Binary）等位相光柵，支持衍射效率計算，而且可以對光柵的刻線密度及光柵的形貌（槽深度）進行公差分析，便于像質分析。

光柵作為一類特殊的分光器件，已經普遍用在光譜儀、單色儀、高光譜、光通訊等應用領域上，近年來隨著AR/VR行業(yè)的興起，也廣泛用于AR眼鏡中，作為光耦合器件。

1.Radius:光柵基底面曲率半徑，基底面可以是平面，球面或者圓錐曲面。

2.Thickness:光柵基底面厚度。

3.Material:光柵材料。

4.Conic:光柵基底面圓錐系數，如1的描述。

5.TCE：光柵材料熱膨脹系數。

6.Mode number:后續(xù)擴展用。

7.Threshold:衍射效率閾值，如果光線的衍射效率低于該閾值，將從2D,3D視圖，Shadeds視圖及其他分析圖如點列圖中慮除掉，便于直觀的對主要衍射進行分析，去除干擾。

8.Vector Rotation:光柵刻線取向旋轉，類似于tilt about z.默認0時光柵刻線沿著x軸。

9.Order:衍射級次，可以指定任何整數階衍射級次。

10.Lines/um:光柵刻線密度。

11.Structure Profile(Mode):光柵類型選擇

0：理想閃耀型

1：正弦位相型

2：方波位相型

3：表面浮雕型-Kinoform

4: 二元位相型-Binary

1.Blaze Depth(um):閃耀深度，單位um。

注意該參數只有當衍射類型為1,2,3,4時可用。

1.Steps（Binary）:蝕刻階數

注意該參數只有當衍射類型為4時可用。

1.Random Seed:隨機采樣種子

用于控制后續(xù)的LinesVariation及Depth Variation 參數，用于刻線密度及刻槽深度的公差分析。

1.Lines Variation(+-%):

以百分比的形式指定刻線密度公差，因此可以對刻線密度進行公差分析。

1.Depth Variation(+-%):

以百分比的形式指定閃耀深度公差，因此可以對衍射效率進行公差分析。

注意：

在公差編輯器中可以用TPAR公差操作數對上述量進行靈敏度、蒙特卡洛等公差分析。

關于參數8： Vector Rotation的說明

示例：正弦光柵的衍射效率曲線

衍射效率隨波長的變化關系