ZEMAX里邊所有的光柵模型均為理想的光柵模型，不考慮光柵的衍射效率隨光波長(zhǎng)、入射角、衍射級(jí)次的變化，所有波長(zhǎng)、入射角、衍射級(jí)次都假定衍射效率100%，嚴(yán)重不符合物理實(shí)際，也無(wú)法進(jìn)行公差分析。

我們自定義的光柵模塊Grtaing_XE.dll可以對(duì)上述模型進(jìn)行修正，得到比較真實(shí)的衍射效率曲線。該光柵插件模塊基于標(biāo)量衍射理論，支持正弦光柵、矩形（方波）光柵、基諾（kinorform）型光柵、二元光柵（Binary）等位相光柵，支持衍射效率計(jì)算，而且可以對(duì)光柵的刻線密度及光柵的形貌（槽深度）進(jìn)行公差分析，便于像質(zhì)分析。

光柵作為一類特殊的分光器件，已經(jīng)普遍用在光譜儀、單色儀、高光譜、光通訊等應(yīng)用領(lǐng)域上，近年來(lái)隨著AR/VR行業(yè)的興起，也廣泛用于AR眼鏡中，作為光耦合器件。

1.Radius:光柵基底面曲率半徑，基底面可以是平面，球面或者圓錐曲面。

2.Thickness:光柵基底面厚度。

3.Material:光柵材料。

4.Conic:光柵基底面圓錐系數(shù)，如1的描述。

5.TCE：光柵材料熱膨脹系數(shù)。

6.Mode number:后續(xù)擴(kuò)展用。

7.Threshold:衍射效率閾值，如果光線的衍射效率低于該閾值，將從2D,3D視圖，Shadeds視圖及其他分析圖如點(diǎn)列圖中慮除掉，便于直觀的對(duì)主要衍射進(jìn)行分析，去除干擾。

8.Vector Rotation:光柵刻線取向旋轉(zhuǎn)，類似于tilt about z.默認(rèn)0時(shí)光柵刻線沿著x軸。

9.Order:衍射級(jí)次，可以指定任何整數(shù)階衍射級(jí)次。

10.Lines/um:光柵刻線密度。

11.Structure Profile(Mode):光柵類型選擇

0：理想閃耀型

1：正弦位相型

2：方波位相型

3：表面浮雕型-Kinoform

4: 二元位相型-Binary

1.Blaze Depth(um):閃耀深度，單位um。

注意該參數(shù)只有當(dāng)衍射類型為1,2,3,4時(shí)可用。

1.Steps（Binary）:蝕刻階數(shù)

注意該參數(shù)只有當(dāng)衍射類型為4時(shí)可用。

1.Random Seed:隨機(jī)采樣種子

用于控制后續(xù)的LinesVariation及Depth Variation 參數(shù)，用于刻線密度及刻槽深度的公差分析。

1.Lines Variation(+-%):

以百分比的形式指定刻線密度公差，因此可以對(duì)刻線密度進(jìn)行公差分析。

1.Depth Variation(+-%):

以百分比的形式指定閃耀深度公差，因此可以對(duì)衍射效率進(jìn)行公差分析。

注意：

在公差編輯器中可以用TPAR公差操作數(shù)對(duì)上述量進(jìn)行靈敏度、蒙特卡洛等公差分析。

關(guān)于參數(shù)8： Vector Rotation的說(shuō)明

示例：正弦光柵的衍射效率曲線

衍射效率隨波長(zhǎng)的變化關(guān)系