培訓大綱

1 Zemax OpticStudio簡介
2 數(shù)據(jù)庫；鏡頭庫，材料庫
3 玻璃材料以及如何定義新材料
4 像差簡介以及ZEMAX中的像差圖表
5 優(yōu)化原理和優(yōu)化向?qū)?br/> 6 局部/全局/錘形優(yōu)化/優(yōu)化操作數(shù)
7 實例：單透鏡/雙透鏡的建模和優(yōu)化
8 熱分析和消熱差優(yōu)化
9 二元面及衍射光學表面
10 鬼像及雜散光分析
11 調(diào)制傳遞函數(shù)MTF和成像質(zhì)量評估
12 雙高斯鏡頭的設計與優(yōu)化，圖像模擬功能
13 ZEMAX中的坐標系統(tǒng)
14 坐標間端面及其使用技巧
15 序列模式中的棱鏡模型
16 實例：掃描振鏡
17 實例：投影系統(tǒng)設計，科勒照明系統(tǒng)設計
18 混合模式和非序列模式
19 黑盒系統(tǒng)
20 ZEMAX中的快速優(yōu)化工具
21 尋找最佳非球面/轉(zhuǎn)換非球面類型
22 公差分析簡介
23 制造誤差和裝配誤差
24 公差評價標準
25 靈敏度/反靈敏度/蒙特卡羅分析
26 公差補償器
27 公差操作數(shù)
28 實例：對單透鏡/庫克三片鏡進行公差分析
29 公差報告詳解
30 公差腳本簡介
31 鏡片/CAD制圖

培訓信息

主辦單位：武漢宇熠科技有限公司
會議主題：Ansys Zemax 成像設計
培訓講師：武漢宇熠科技有限公司光學高級工程師
培訓時間：2023年3月1日- 2日（9：00-17：00）
培訓費用：￥ 1980元 / 人
三人及以上組團報名可享受八折優(yōu)惠！
報名方式：掃碼報名