Zemax OpticStudio 成像設計培訓課程

課程介紹：

本課程為 3 天中高階成像設計課程，課程主要覆蓋序列成像設計、優(yōu)化技巧、像質評 價、熱分析、鬼像分析、公差分析、像差概念及 Zemax 圖譜、玻璃材料定義、坐標變換 等，及相應的實例鏡頭、棱鏡建模等。

課表安排：

上課時間 第1天 第2天 第3天
9:00- 10:30 OpticStudio 軟件功能介紹； 材料庫、鏡頭庫介紹； 如何定義新材料; 如何使用鏡頭庫； MTF； 雙高斯鏡頭設計及優(yōu)化； 像質評價與圖像模擬； 分析工具應用； 尋找最佳非球面； 曲率套樣板； 鏡頭匹配工具；
10:30- 10:45 茶歇
10:45- 12:00 像差理論介紹； Zemax 里像差分析圖譜； 坐標變換； 坐標斷點面的使用技巧； 序列模式棱鏡建模； 掃描反射鏡設計實例； Zemax 公差分析功能介紹； 加工誤差、裝配誤差； 靈敏度分析； 反靈敏度分析； 蒙特卡羅分析；
12:00- 13:30 午餐
13:30- 15:00 優(yōu)化； 局部優(yōu)化； 全局優(yōu)化； 錘形優(yōu)化； 優(yōu)化函數(shù)架構技巧； 單透鏡優(yōu)化實例； 雙膠合優(yōu)化實例； 柯勒照明綜合設計實例； 投影系統(tǒng)設計； 集光系統(tǒng)設計； 公差評價標準； 公差操作數(shù)； 補償變量的使用； 單透鏡公差分析； 庫克鏡頭公差分析； 分析報告查看說明；
15:00- 15:15 茶歇
15:15- 17:00 熱分析及衍射光學元件的使用； 鬼像分析、雜散光分析； 實例設計及分析; 小結及答疑； 暗盒系統(tǒng)介紹； 小結及答疑； 公差腳本的使用； 鏡頭出圖、CAD 出圖； 小結及答疑；