ZEMAX 成像光學系統(tǒng)設計 線上培訓

培訓課程一：ZEMAX 成像光學系統(tǒng)設計 線上培訓

課程大綱

1 Zemax OpticStudio簡介

2 數(shù)據(jù)庫；鏡頭庫，材料庫

3 玻璃材料以及如何定義新材料

4 像差簡介以及OpticStudio中的像差圖表

5 優(yōu)化

6 局部/全局/錘形優(yōu)化/優(yōu)化操作數(shù)

7 優(yōu)化實例：單透鏡/雙透鏡

8 熱分析

9 二元面及衍射光學表面

10 鬼像及雜散光分析

11 調(diào)制傳遞函數(shù)和成像質(zhì)量評估

12 雙高斯鏡頭的設計與優(yōu)化

13 OpticStudio中的坐標系統(tǒng)

14 坐標間端面及其使用技巧

15 序列模式中餓棱鏡模型

16 實例：掃描振鏡

17 實例：科勒照明

18 轉(zhuǎn)換為非序列模式

19 黑盒系統(tǒng)

20 OpticStudio中的優(yōu)化工具

21 尋找最佳非球面/轉(zhuǎn)換非球面類型

22 公差分析簡介

23 制造誤差和裝配誤差

24 公差評價標準

25 靈敏度/反靈敏度/蒙特卡羅分析

26 公差補償器

27 公差操作數(shù)

28 公差示例：對單透鏡/庫克三片鏡進行公差分析

29 公差報告

30 鏡片/CAD制圖

培訓課程二：ZEMAX 照明設計與雜散光分析

課程大綱

01 非序列光線追跡

02 光源物體

03 探測器物體

04 分辨率 VS 噪聲

05 照明單位 & 幾何量

06 光源建模

07 光源建模：IESNA & EULUMDAT 模型

08 光源建模：Source Radial

09 光原建模：內(nèi)置幾何模型

10 光原建模：使用測量數(shù)據(jù)

11 生成 Source Model 光線

12 模擬光源光譜

13 色度學

14 建模彩色光源

15 測量顏色數(shù)據(jù)

16 照明系統(tǒng)

17 拋物面反射器

18 Sobol 采樣

19 BMP 位圖優(yōu)化

20 復合拋物面聚光器 CPC

21 背光模組 物體陣列 & 光源陣列

22 復雜幾何體

23 嵌套規(guī)則

24 原生布爾物體和布爾 CAD 物體

25 CAD 導入 & 導出

26 使用混合模式

27 偏振光線追跡

28 物體屬性：面分組 & 屬性

29 光線分裂

30 X-Cube 棱鏡

31 簡單光線分裂

32 非序列設置

33 故障排查：光線追跡中止條件

34 故障排查：幾何錯誤

35 “ Inside of ” 標識

36 故障排查：膠合距離

37 故障排查：面元物體 & 繪圖精度

38 序列模式轉(zhuǎn)換成非序列模式

39 雜散光分析介紹

40 散射

41 雜散光分析工具

42 Maksutov 雜散光分析

43 非序列鬼像分析

44 非序列系統(tǒng)公差分析

課程信息

費用：費用均為 1680元/人

活動優(yōu)惠：同時報名參加享九折優(yōu)惠

培訓形式：線上培訓

課程日期：2020 年 10 月 24 日 - 27 日

課程時間： 9 ：00 - 17 ： 00

主辦單位：武漢宇熠科技有限公司

報名方式

聯(lián)系方式
電話：027-87878386
郵箱：sales@ueotek.com

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